应用范围
半导体
砷烷用于半导体工业中外延硅的n型掺杂;硅中n型扩散;离子注入;生长砷化镓(GaAs)、磷砷化镓(GaAsP)以及与III/V族元素形成化合物半导体。
AsH3可用于合成与微电子学及固态雷射有关的半导体材料。与磷相似,砷是硅及锗的n-掺染物。[1] 更重要的用途是以AsH3为原料,在700-900°C通过化学气相沉积来制造半导体材料砷化镓(GaAs):
Ga(CH3)3 + AsH3 → GaAs + 3CH4
环境影响
健康危害
侵入途径:吸入。
健康危害:本品为强烈溶血毒物,红细胞溶解后的产物可堵塞肾小管,引起急性肾功衰竭。
急性中毒:一般在十多小时内即出现溶血症状和体征。累者全身无力、恶心、呕吐、腰痛、巩膜轻度黄染、尿色深暗;较重者出现寒战,体温升高,尿呈酱油色甚至黑色,黄疸加深,肝脏肿大;严重导致急性肾功衰竭,病人全身症状加重,体温升高,出现尿闭,可因急性心力衰竭和尿毒症而死亡。
慢性影响:长期在低浓度环境中作业主要表现为头痛、乏力、恶心、呕吐,较重者可有多发性神经炎,常伴有贫血。
环境行为
污染来源:砷化氢在工业上无直接用途。有砷夹杂的金属矿石与工业硫酸或盐酸相遇可发生砷化氢。含砷的硅铁等冶炼和贮存时,接触潮湿空气,或用水浇熄炽热含砷矿物的炉渣时,均可产生砷化氢。
危险特性:强还原剂。与空气混合能形成爆炸性混合物。遇吸火、高热能引起燃烧爆炸。
燃烧(分解)产物:氧化砷。